О компании 

История

Компания "Сигм плюс" создана в 1991г. как коллектив специалистов в области производства полупроводниковых эпитаксиальных гетероструктур методом МОС-гидридной (MOCVD) эпитаксии. Это время прихода в упадок отечественной микроэлектроники и оптоэлектроники в частности. Необходимо было решать не только технологические задачи создания новых эпитаксиальных структур, но и постоянно совершенствовать аппаратное оформление, в те годы еще молодого и бурно развивающегося метода МОСГЭ (MOCVD). В первую очередь хотелось сохранить тот технологический опыт, который нарабатывался годами, и не отстать от зарубежных фирм, ведущих разработки в этой области. Этим объясняется, что в небольшую группу энтузиастов MOCVD влились специалисты по моделированию и автоматизации технологических процессов, программированию, разработке и внедрения новых технологий. Благодаря этому удалось не только сохранить и преумножить технологический потенциал компании, но и создать принципиально новые типы технологического оборудования, по своим характеристикам не уступающего мировым аналогам.

Одним из судьбоносных решений для развития компании было привлечение для создания собственного технологического оборудования комплектующих ведущих мировых производителей. Высокое качество и надежность их определило долговечность и высокие технические характеристики приборов и аппаратов наших разработок. Многие из этих компаний в дальнейшем стали нашими надежными партнерами в бизнесе.

Направления

• Основным направлением деятельности компании по-прежнему является производство эпитаксиальных гетероструктур для различных приборов оптоэлектроники и ИК-техники.

• Ключевым моментом в технологии газофазной эпитаксии, в частности МОС-гидридной эпитаксии, является прецизионное управление потоками сверхчистых газов. Отсюда родилось динамично развивающееся направление по приборам контроля и управления газовыми потоками с высокой точностью фирм Bronkhorst High-Tech, M+W Instruments, Hoffer Flow Controls. Мы предлагаем весь спектр услуг от подбора и поставки приборов по требованиям заказчика до изготовления газовых схем и установок на базе указанных приборов.

• Технология МОС-гидридной эпитаксии немыслима без использования сверхчистых исходных реагентов и технологических газов. Компания Сигм Плюс разработала несколько моделей установок для очистки и осушки газов, успешно использующихся в технологии полупроводникового производства и не только.

• Постоянное совершенствование изделий электронной техники предъявляет жесткие требования к технологии формирования эпитаксиальных гетероструктур, лежащих в основе современных приборов. Поэтому Сигм Плюс представляет на российском рынке оборудование газофазной эпитаксии мирового лидера фирмы  Aixtron SE для различных систем материалов: соединения А³В⁵, Si, SiGe и др.

• Задача освоения новых гетероструктур требует помимо совершенной технологии изготовления также и современных методов контроля параметров продукта. В связи с этим Сигм Плюс представляет в России оборудование компании Nanometrics, лидера в производстве оптических методов контроля в полупроводниковой промышленности.